第二十二讲 化学气相沉积(CVD)技术  

No. 22:Chemical Vapor Deposition Technology

作　　者：张以忱[1] ZHANG Yi-chen

机构地区：[1]东北大学,辽宁沈阳110004

出　　处：《真空》2023年第1期86-88,共3页Vacuum

摘　　要：化学气相沉积(Chemical Vapor Deposition,CVD)是在一定温度条件下,混合气体之间或混合气体与基材表面相互作用,并在基材表面上形成金属或化合物的薄膜镀层,使材料表面改性,以满足耐磨、抗氧化、抗腐蚀以及特定的电学、光学和摩擦学等特殊性能要求的一种技术。

关 键 词：化学气相沉积 基材表面 混合气体 材料表面改性 摩擦学 抗腐蚀 特殊性能 

分 类 号：O484[理学—固体物理] TB43[理学—物理]