深紫外激光光发射电子显微镜  

Deep Ultraviolet Photoemission Electron Microscope DUV-DPL PEEM

出　　处：《中国科学院院刊》2023年第S01期36-36,共1页Bulletin of Chinese Academy of Sciences

摘　　要：主要技术与性能指标,PEEM分辨率:≤10 nm,LEEM分辨率:≤5 nm,能量分辨率:≤0.2 eV主要应用,表面分析科学中的表面磁学、表面催化、薄膜生长等,代表性应用成果,磁学研究、表面催化、薄膜生长。主要用户单位,中国科学院空天信息创新研究院、中国科学院物理研究所、中国科学院大学、西湖大学。

关 键 词：深紫外激光 表面催化 中国科学院 薄膜生长 表面分析 光发射电子显微镜 能量分辨率 空天信息 

分 类 号：TN16[电子电信—物理电子学]