电子束蒸发镀膜设备  

Electron Beam Evaporation Coating Equipment EB-700、EB-900

出　　处：《中国科学院院刊》2023年第S01期41-41,共1页Bulletin of Chinese Academy of Sciences

摘　　要：主要技术与性能指标,极限真空度:<2.6×10^(−5)Pa,系统真空漏率:≤6.6×10^(−8)Pa.l/s,膜厚不均匀度:≤±5%,片间不均匀性:≤±5%,批间不均匀性:≤±5%,主要应用,半导体、LED科学研究,代表性应用成果,可满足铝、钛、铬、钒、镍、银、铟等金属,以及ITO等氧化物在基片上均匀沉积薄膜的各类工艺要求。

关 键 词：不均匀度 沉积薄膜 极限真空度 不均匀性 电子束蒸发镀膜 半导体 科学研究 性能指标 

分 类 号：O643.36[理学—物理化学]