平面显示用钼及钼合金溅射靶材的专利现状分析  

Patent Analysis of Molybdenum and Molybdenum Alloy Sputtering Target for Planar Display

作　　者：宫溢超 赵虎[2] 梁靖 王彩霞 张家晨 张国君[1] GONG Yichao;ZHAO Hu;LIANG Jing;WANG Caixia;ZHANG Jiachen;ZHANG Guojun(School of Materials Science and Engineering,Xi'an University of Technology,Xi'an 710048,Shaanxi,China;Technical Center,Jinduicheng Molybdenum Co.,Ltd.,Xi'an 710077,Shaanxi,China)

机构地区：[1]西安理工大学材料科学与工程学院,陕西西安710048 [2]金堆城钼业股份有限公司技术中心,陕西西安710077

出　　处：《中国钼业》2023年第4期1-7,共7页China Molybdenum Industry

基　　金：秦创原“科学家+工程师”项目(编号:2022KXJ-161)。

摘　　要：本文主要分析了目前公开的钼及钼合金溅射靶材的相关专利,旨在通过对该领域专利申请状况的梳理,为新型组分钼合金靶材的组织设计、制备方法及性能优化提供借鉴。The relevant patents of molybdenum and molybdenum alloy sputtering targets are analyzed,in order to provide reference for the structure design,preparation method and performance optimization of new component molybdenum alloy targets by reviewing the patent application status in this field.

关 键 词：钼及钼合金 溅射靶材 专利分析 

分 类 号：TG146.412[一般工业技术—材料科学与工程]