溅射靶材

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磁悬浮熔炼铸坯的严重塑性变形制造高纯超细晶Al-0.5Cu溅射靶材
《特种铸造及有色合金》2025年第3期447-455,共9页林镇宇 林耀军 
以高纯Al、Cu为原料,采用水冷铜坩埚中真空磁悬浮感应熔炼获得Al-0.5Cu铸坯。元素分析结果表明,铸坯保持了Al-0.5Cu的合格成分;与原料中O、N浓度相比,铸锭中O(33 mg/kg)、N(30 mg/kg)浓度几乎不变;其他杂质元素的总浓度从原料中的25.66 ...
关键词：高纯溅射靶材 真空磁悬浮感应熔炼 严重塑性变形 AL-CU合金 
高性能钼粉与高端钼基溅射靶材制备关键技术与应用
《中国科技成果》2024年第21期63-63,共1页无 车玉思 张雪凤 李庆奎 吴小超 李帅方 王成铎 
平板显示产业是当前新一代电子信息技术的支柱产业之一,我国平板显示产业累计总投资已超过1.3万亿元,产业规模居世界首位,显示面板出货量全球占比超过50%.但目前我国有超过60%的信息显示关键材料无法实现自主供给,与我国作为显示大国的...
关键词：电子信息产业 支柱产业 扩散阻挡层 溅射靶材 平板显示产业 显示面板 电子信息技术 钼基合金 
银基合金靶材研究现状及发展趋势
《材料研究与应用》2024年第5期685-694,共10页高洋 廖锋尧 李强 柳春锡 葛春桥 
2022年度中山市重大科技专项项目(2022A1009)。
银及银合金靶材是新型显示与半导体集成电路中重要的电子材料之一,但其制备技术在我国未能实现产业化。近年来,随着我国新型显示技术及半导体集成电路领域的快速发展,银合金靶材的市场需求总量及经济价值也在持续快速增长,相关产业化进...
关键词：半导体集成电路 银合金 微合金化 溅射靶材 抗氧化 抗硫化 耐气候性 专利分析 
溅射靶材用铌材的电子束熔炼提纯杂质去除机理研究
《冶金与材料》2024年第9期58-62,共5页李欣琳 任军帅 成佳鹏 高婷 薛少博 
文章采用真空电子束熔炼的方式,对溅射靶材用铌材进行多次提纯。应用GDMS的方法对熔炼后的铌锭端面、中部以及底部杂质含量进行检验,判断铸锭不同位置杂质脱除情况。结果显示,铸锭杂质脱除率与饱和蒸气压差存在对应关系,间隙元素C、N、...
关键词：溅射靶材 铌 电子束熔炼 杂质去除 
高纯铜溅射靶材的发展现状被引量：1
《中国金属通报》2024年第17期1-3,共3页杨超 曾墩风 张信征 石煜 张兵 周海涛 
本文简要介绍了靶材行业的发展现状、靶材的分类以及高纯铜溅射靶材的制备方法和应用领域,分析了高纯铜的纯度、致密度、晶粒尺寸、晶粒取向、几何形状对高纯铜溅射靶材性能的影响,展望了今后高纯溅射靶材的发展趋势。
关键词：高纯铜 溅射靶材 发展 现状 
稀贵金属溅射靶材及关联微电子器件制造关键技术与应用
《中国科技成果》2024年第16期7-9,共3页无 闻明 
半导体产业是现代信息社会的基石,在推动经济发展、社会进步、提高人民生活水平及保障国家安全等方面发挥着重要作用,是支撑当前经济社会发展和保障国家安全的基础性、战略性和先导性的产业.我国已成为全球电子信息产品的主要消费市场,...
关键词：电子信息产品 半导体产业 微电子器件 稀贵金属 溅射靶材 推动经济发展 消费市场 先导性 
纯银溅射靶材的制备、微观结构及溅射成膜研究
《贵金属》2024年第2期1-10,共10页宁哲达 唐可 施晨琦 闻明 
云南省国际合作计划项目(2014IA037);云南省创新团队项目(2019HC024);云南省科技厅科研院所技术开发研究专项(2018DC004)。
银薄膜作为高新技术领域极具潜力的新材料,在现代工业中得到了广泛的应用。以银靶为源材料的磁控溅射已成为制备银薄膜的常用方法。本研究比较了冷轧状态和退火状态下Ag靶的溅射性能,探讨了Ag靶与Ag薄膜之间的关系。结果表明:冷轧变形量...
关键词：Ag溅射靶材 冷轧 再结晶退火 Ag薄膜 微观结构 
Ru_(0.26)Sb_(2)Te_(3)合金靶的制备方法及性能研究
《稀有金属》2024年第4期595-601,共7页施晨琦 宁哲达 陈天天 闻明 管伟明 王传军 
云南省重大科技专项项目(202002AB080001-1-7);云南省创新人才项目(202005AD160029)资助。
贵金属Ru掺杂的Sb_(2)Te_(3)相变材料有望改进Sb_(2)Te_(3)结晶温度低、非晶热稳定性差等问题,以满足相变存储器稳定工作的需求。以Ru∶Sb∶Te=0.26∶2∶3(原子比)的Ru_(0.26)Sb_(2)Te_(3)合金粉、Ru+Sb+Te混合粉以及Ru+Sb_(2)Te_(3)混...
关键词：溅射靶材 相变存储 Ru掺杂 Sb-Te合金 
浅谈集成电路用金属溅射靶材研究现状
《有色金属加工》2024年第2期1-3,9,共4页居炎鹏 李心然 
文章介绍了集成电路用金属靶材的技术要求和制备工艺,并对金属溅射靶材发展趋势进行了预测和展望。
关键词：集成电路 金属溅射靶材 晶粒尺寸 晶面取向 发展趋势 
姚力军:从“小步慢跑”到“奔涌向未来”
《浙商》2024年第4期41-43,共3页李艳霄 
一夜落雪,刚竣工不久的龙江学子创业园银装素裹。行走在积雪上,所闻是令南方人新奇的声响,江丰电子董事长兼首席技术官姚力军对此则并不陌生,反而格外亲切。姚力军在浙江宁波创业近20年,却是土生土长的哈尔滨人。从求学到创业,他离乡30...
关键词：创业园 首席技术官 南方人 哈尔滨人 浙江宁波 姚力 溅射靶材 产品依赖 
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