溅射靶材用铌材的电子束熔炼提纯杂质去除机理研究  

作　　者：李欣琳 任军帅 成佳鹏 高婷[1] 薛少博[1] 

机构地区：[1]西北有色金属研究院,陕西西安710016

出　　处：《冶金与材料》2024年第9期58-62,共5页Metallurgy and Materials

摘　　要：文章采用真空电子束熔炼的方式,对溅射靶材用铌材进行多次提纯。应用GDMS的方法对熔炼后的铌锭端面、中部以及底部杂质含量进行检验,判断铸锭不同位置杂质脱除情况。结果显示,铸锭杂质脱除率与饱和蒸气压差存在对应关系,间隙元素C、N、O主要是以气体形式直接挥发去除,非间隙元素Fe、Si元素含量在铸锭轴向从上到下逐渐减少,Mo、Ta、W、Zr四种元素在铸锭轴向上分布区别并不明显。熔炼后,Ta、W元素含量与原料相比没有变化,Mo、Zr元素含量显著比原料低,非间隙元素为蒸发和定向凝固协同控制脱除机制。

关 键 词：溅射靶材 铌 电子束熔炼 杂质去除 

分 类 号：TF841.6[冶金工程—有色金属冶金]