2023高功率脉冲磁控溅射技术与应用专题会议(重庆)通知  

作　　者：无 

机构地区：[1]中国机械工程学会表面工程分会

出　　处：《材料保护》2023年第9期10-10,共1页Materials Protection

摘　　要：以高功率脉冲磁控溅射技术(HiPIMS)为代表的高离化磁控溅射技术作为一种新的物理气相沉积技术,可以明显提高薄膜结构可控性,进而获得优异的薄膜性能,在国内外研究领域和工业界受到了广泛关注和重视。为推动该技术的进步,国际上已经形成了HiPIMS Today等一系列的国际会议对该技术放电机理、脉冲形式、等离子体输运与诊断、以及薄膜/涂层沉积与应用等多个方面进行专题研讨,为其发展与应用带来了蓬勃动力!

关 键 词：物理气相沉积 磁控溅射技术 薄膜性能 高功率脉冲磁控溅射 结构可控性 PIMS 放电机理 专题会议 

分 类 号：TB383.2-2[一般工业技术—材料科学与工程]