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作 者:王璐 黄现礼 何建平[1] 王涛[1] 吕俊 王建波 WANG Lu;HUANG Xianli;HE Jianping;WANG Tao;LYU Jun;WANG Jianbo(School of materials science and technology,Nanjing University of Aeronautics and Astronautics,Nanjing 210016,China;Longi Solar Technology Co.,Ltd.,Taizhou 225300,Jiangsu,China;Longi Solar Technology Co.,Ltd.,Xi’an 710000,China)
机构地区:[1]南京航空航天大学材料科学与技术学院,南京210016 [2]隆基乐叶光伏科技股份有限公司,江苏泰州225300 [3]隆基光伏科技股份有限公司,西安710000
出 处:《材料导报》2023年第24期1-6,共6页Materials Reports
摘 要:传统丝网印刷作为晶体硅太阳电池的栅极金属化工艺,在现今发展成本低、效率高的太阳电池背景下仍存在很多不足,如金属银价格高,阴影损失大等。近些年,通过电化学沉积过程来实现晶体硅太阳电池片表面金属化被广泛报道。该技术可以在电池片的正反面进行快速的选择性沉积,提高栅极与衬底的结合力的同时也降低了电阻率,并且利用铜替代银,大大降低了太阳电池的成本。本文总结了电化学沉积法制备晶体硅太阳电池片栅极的研究现状和发展趋势,同时介绍了未来该项技术在推广和应用中存在的机遇与挑战。As the grid metallization process of crystalline silicon solar cells,traditional screen printing has exposed many shortcomings of low-cost and high-efficiency solar cells,which include high silver prices and large shadow loss.Surface metallization of crystalline silicon solar cells by electrochemical deposition has been widely reported.This technology rapidly and selectively deposits on the front and back of solar cells.Grid fabricated in this way not only has excellent adhesion force,but also has low resistivity.In addition,copper replaced silver,which greatly reduced the solar cell cost.This paper summarizes the research status and development tendencies of electrochemical deposition of crystalline silicon solar cell grids,and illustrates opportunities and challenges in promoting this technology in the future.
关 键 词:晶体硅太阳电池 电化学沉积 金属化 激光消融 选择性沉积
分 类 号:TB34[一般工业技术—材料科学与工程]
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