光刻机照明系统中的光束稳定技术分析  

作　　者：程利容 

机构地区：[1]荆州理工职业学院,湖北荆州434000

出　　处：《光源与照明》2023年第12期59-61,共3页Lamps & Lighting

摘　　要：随着半导体技术的发展,对半导体照明光源要求越来越高,对光功率和光斑大小要求也越来越高,以满足实际应用需要。为了提高光刻质量和效率,采用大功率LED作为照明光源是目前半导体照明发展的主要趋势。文章对半导体照明光源及光刻工艺中的光束质量进行简要介绍,分析了半导体照明光源的工作原理和主要参数,结合光刻机对LED光源的要求,对光刻机中LED光源稳定技术进行了分析。

关 键 词：光刻机 照明系统 光束稳定技术 半导体照明 

分 类 号：TN383.2[电子电信—物理电子学]