激光退火仪  

出　　处：《光学精密机械》2023年第1期1-2,共2页Optics and Fine Mechanics

摘　　要：安徽省量子计算工程研究中心,国内首个专用于量子芯片生产的MLLAS一100激光退火仪已研制成功,可解决量子芯片位数增加时的工艺不稳定因素,像“手术刀”一样精准剔除量子芯片中的“瑕疵”,增强量子芯片在向多比特扩展时的性能,从而进一步提升量子芯片的良品率。

关 键 词：量子计算 激光退火 量子芯片 工程研究中心 良品率 手术刀 多比特 不稳定因素 

分 类 号：O41[理学—理论物理]