二十世纪以来印学发展的特殊性  

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作  者:林如[1] 

机构地区:[1]浙江大学艺术与考古学院

出  处:《中国书法》2024年第4期182-184,共3页Chinese Calligraphy

基  金:二〇二〇国家社科基金艺术学项目“二十世纪中国篆刻与西泠印社之关系研究”(项目编号20BF075)阶段性成果。

摘  要:二十世纪后半叶,印学概论类著述、史学专著、美学专著、个案研究等开始不断涌现,从篆刻史学、美学、印章美学史、方法论等方面,充实了二十世纪印学研究的框架。西泠印社一直活跃于篆刻界、印学理论界,其学术研究、视野和方向,更是二十世纪以来印学发展的风向标。

关 键 词:篆刻学 印学 金石学 特殊性 西泠印社 

分 类 号:J292.4[艺术—美术]

 

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