CVD合成钻石复合处理下典型光谱的特征  

作　　者：张旭 周武邦 严俊 

机构地区：[1]浙江方圆检测集团股份有限公司

出　　处：《中国宝石》2024年第2期187-191,共5页China Gems

摘　　要：本文所课题研究工作是在紫外可见(UV-Vis)吸收光谱、傅里叶变换红外(FTIR)光谱、光致发光(PL)光谱的基础上,探究电子束辐照(electron irradiation,EI)、高温高压(high pressure high temperature,HTHP)及退火(annealing,AN)处理对化学气相沉积(Chemical vapor deposition,CVD)合成钻石典型光谱的影响.

关 键 词：复合处理 化学气相沉积 课题研究工作 电子束辐照 

分 类 号：TG1[金属学及工艺—金属学]