氧化钒薄膜沉积设备及其电阻均匀性调试方法  

作　　者：李兆营 黄添萍 

机构地区：[1]安徽光智科技有限公司,安徽滁州239000

出　　处：《设备管理与维修》2024年第11期103-105,共3页Plant Maintenance Engineering

摘　　要：介绍一种氧化钒薄膜沉积设备以及电阻均匀性的调试方法。采用反应磁控溅射法在涨有氮化硅薄膜的硅衬底上制备了氧化钒薄膜,采用四探针电阻测试仪测试氧化钒薄膜的方块电阻。结果表明,通过改变氧气在衬底表面的分布,可以实现对氧化钒表面电阻均匀性的实时调控,即通过增加氧气流量提高对应位置的电阻或减小氧气流量来降低对应位置的电阻,从而获得了电阻均匀性良好的氧化钒薄膜。同时也降低设备开腔调试的频率,节约靶材及时间成本。该设备的改造思路也可推广至用于其他薄膜的制备。

关 键 词：电阻均匀性 氧化钒薄膜 反应磁控溅射 

分 类 号：TN305.92[电子电信—物理电子学]