一种三烷基锑的纯化工艺及应用  

作　　者：姜永要 王伟 

机构地区：[1]安徽亚格盛电子新材料股份有限公司

出　　处：《石油石化物资采购》2024年第13期61-63,共3页Petroleum & Petrochemical Material Procurement

摘　　要：锑化物被誉为“第四代半导体”材料的核心技术,具备制造成本低、体积小巧、效率高、性能稳定和使用寿命长等优势,使其在激光器领域具有不可替代的地位,尤其是锑化物激光器,因其优越的性能,被广泛应用于各种苛刻环境中。作为一种引领未来的关键技术,锑化物激光器的发展前景和市场空间巨大,全球各国都在积极研究和发展,竞争激烈。基于此,本文主要介绍了三烷基锑的基本性质、在半导体材料中的作用及其纯化工艺,并展望了未来发展趋势。

关 键 词：锑化物 应用 半导体 纯化工艺 展望 

分 类 号：TN2[电子电信—物理电子学]