新一代金属离子纯化器,用于ppt级别光刻胶纯化  

New generation metal ion purifier for ppt grade photoresist purification

作　　者：王桂河 吴迪 

机构地区：[1]舒万诺公司(原3M Healthcare)

出　　处：《流程工业》2024年第7期28-31,共4页

摘　　要：随着半导体技术进步,光刻胶中金属离子杂质对芯片性能与寿命影响显著,传统去金属离子方法已难满足ppb级以下高纯度需求。亟须创新技术提升去除效率,保障芯片质量以满足生产过程中的严苛要求。本文会向大家介绍一款舒万诺公司(原3M Healthcare)的高效金属离子纯化器Metal Ion Purifier(以下简称“MIP”),采用特殊的树脂固化微床技术,具有很高的单次通过金属离子去除效率,满足ppt级别的金属离子指标要求,同时具有超高的金属离子交换容量,超低的金属离子析出水平。

关 键 词：光刻胶 金属离子 纯化器 离子交换 树脂 溶剂 

分 类 号：F42[经济管理—产业经济]