某电子洁净厂房超纯水方案设计  

作　　者：赵立德 屈红超 

机构地区：[1]中国电子系统工程第四建设有限公司,北京100070

出　　处：《中国建筑金属结构》2024年第S02期38-40,共3页China Construction Metal Structure

摘　　要：在半导体器件设备、电子元件及电子专用材料制造等电子洁净厂房设计时,工艺设备通常需要超纯水(18.2MΩ·cm)进行清洗,本文通过超纯水系统方案设计、供水管路系统、纯水管材选择等的介绍,以期为超纯水系统设计提供参考。

关 键 词：电子洁净厂房 超纯水 半导体 

分 类 号：F42[经济管理—产业经济]