基于化学清洗技术的TFT设备表面污染物去除与界面优化研究  

作　　者：戎家亮 

机构地区：[1]安徽应友光电科技有限公司,安徽全椒239500

出　　处：《新潮电子》2024年第10期160-162,共3页

摘　　要：本研究聚焦于TFT设备表面污染问题,旨在通过化学清洗技术有效去除表面污染物,并对界面进行优化。我们系统地归纳了TFT设备表面的污染种类,并探究了其产生的原因与影响因素,发现油污、灰尘等都会严重影响设备性能。为此,我们研究了化学清洗技术,详尽阐述了清洗的原理、清洗剂的选择及工艺流程,对于提升TFT设备生产过程的质量控制与性能提升具有重要意义。

关 键 词：TFT设备表面污染 化学清洗技术 界面优化 性能提升 

分 类 号：G63[文化科学—教育学]