离子源对透镜防蓝光镀膜工艺的影响  

作　　者：鲁涛 陈李根 巫肇梅 熊辉 郭滨刚 

机构地区：[1]江西理工大学信息工程学院,江西赣州341000 [2]赣州职业技术学院,江西赣州341000 [3]赣州市光科微纳米技术有限公司,江西赣州341000

出　　处：《科技风》2024年第32期9-11,共3页

基　　金：江西省大学生创新创业训练计划项目:新型纳米材料超透镜的设计(编号:S202210407036)。

摘　　要：此项研究基于物理气相沉积下的真空镀膜技术,可以有效实现防蓝光镜片镀膜工艺,采用高低折射率镀膜材料的搭配,在光谱分析测试设备中,有害蓝光波段(即可见光波长位于380~450nm)处,达到90%及以上反射的高反状态。改变真空室内离子源的使用条件,进而取得更好的防蓝光效果。研究表明,在开启霍尔离子源辅助,且电子束流在8A的情况下,可以增加防蓝光薄膜层的附着力和稳定性,薄膜的性质与辅助离子源和起始薄膜材料紧密相连。利用物理气相沉积镀膜技术,在炉内离子源使用条件不一致的情形下,防蓝光效果也发生改变,此研究也为防蓝光镀膜工艺的研发提供了新的参考。

关 键 词：离子源 防蓝光镀膜工艺 物理气相沉积 有害蓝光波段 

分 类 号：O48[理学—固体物理]