超大规模集成电路纳米磨料化学机械全局平面化新技术  

作　　者：王新 

出　　处：《天津科技》2002年第6期49-49,共1页Tianjin Science & Technology

摘　　要：由河北工业大学承担完成的“超大规模集成电路纳米磨料化学机械全局平面化新技术”项目,经专家评审鉴定,属国际领先水平。 该成果发明了超大规模集成电路化学机械全局平整化新技术的新机理模型和多层Cu布线纳米CMP抛光液、抛光表面纳米粒子的清洗技术及无污染、作用力强、可溶性的金属离子螯合剂和Cu2+、Cu+高效强络合剂。其中FA/O型Cu布线CMP抛光液价格仅为进口产品的1/4以下。

关 键 词：超大规模集成电路 全局平面化 纳米磨料 清洗 

分 类 号：TN47[电子电信—微电子学与固体电子学]