检索规则说明:AND代表“并且”;OR代表“或者”;NOT代表“不包含”;(注意必须大写,运算符两边需空一格)
检 索 范 例 :范例一: (K=图书馆学 OR K=情报学) AND A=范并思 范例二:J=计算机应用与软件 AND (U=C++ OR U=Basic) NOT M=Visual
作 者:范宏义
出 处:《材料保护》2003年第2期63-63,共1页Materials Protection
摘 要:利用旋转圆柱Hull槽(RCHC)控制工艺是离速沉积电解液的应用实例,在实际生产中,可以通过仪表测量镀镍液中铜杂质的影响(由于RCHC提高了扩散极限电流密度)。另外,利用该设备可以控制添加剂(如光亮剂、整平剂)的范围。
关 键 词:旋转圆柱 HULL槽 RCHC 工艺 高速沉积电解液 镀镍液 铜杂质 光亮剂 整平剂
分 类 号:TQ153.12[化学工程—电化学工业]
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