射频激励的铜和金离子激光器中等离子体特性的实验研究  

Experimental study on RF-discharged plasma characteristics in Au and Cu ion Laser

作　　者：黄建军[1] 刘正之[2] 梁荣庆[2] D.Teuner 

机构地区：[1]深圳大学理学院,广东深圳518060 [2]中国科学院等离子体物理研究所,安徽合肥2300313 [3]德国鲁尔大学电子工程与信息技术系,德国波鸿d44780

出　　处：《中国激光》2003年第2期120-122,共3页Chinese Journal of Lasers

基　　金：广东省自然科学基金 (编号 :980 92 2 )资助项目

摘　　要：通过对射频 (RF)放电电压电流以及其相位角的精确测定 ,结合射频放电的物理模型与等效电路 ,对金属铜和金电极He气中的射频放电进行实验研究 ,得出射频放电溅射型铜和金离子等离子体电阻、容抗、鞘层厚度与电流密度的关系 ;在Goydak模型的基础上计算出电子密度 ,得出电子密度与气体压强、放电电流密度之间的实验曲线 ,并对两电极进行了比较。The dischare plasma characteristics of the RF sputtered Cu and Au in He gas are investigated. The sheath thickness and the real and imaginary part of the plasma impedance are obtained. In addition, on the basis of Gadyak's RF discharge model, the electron density in the discharge plasma is calculated for different pressure and current density.

关 键 词：等离子体物理学 金属离子激光器 射频溅射 Goydak模型 电子密度 

分 类 号：O53[理学—等离子体物理]