基于光谱法的晶体厚度测量  

Crystal thickness determination based on spectroscopic methodology

作　　者：孙宏波[1] 贺银波[1] 吴国忠[2] 曾广杰[1] 余飞鸿[1] 

机构地区：[1]浙江大学现代光学仪器国家重点实验室,浙江杭州310027 [2]浙江大学电气学院电子技术研究所,浙江杭州310027

出　　处：《光学仪器》2003年第1期3-7,共5页Optical Instruments

基　　金：国家自然科学基金项目 ( 60 1770 13 ) ;宁波市科委-浙大专项资金资助项目

摘　　要：首次提出利用光谱特性来确定晶体厚度。从理论上推导出其实现的可行性 ,然后结合实验分析了测量系统的具体实现过程及计算厚度的算法 ,并分析了影响测量精度的主要因素。The theoretical basis of crystal thickness determination based on spectroscopic methodology is introduced for the first time in this paper. The implementation of the measurement system and the algorithm of calculating crystal thickness are also presented. Finally, the factors affecting the measurement result are also discussed.

关 键 词：晶体厚度测量 光谱法 测量精度 

分 类 号：O766[理学—晶体学]