Si_3N_4/BN纳米复合粉体的制备  

作　　者：王向东[1] 乔冠军[1] 金志浩[1] 楠濑尚史 

机构地区：[1]西安交通大学材料强度国家重点实验室,西安710049 [2]大阪大学产业科学研究所

出　　处：《科学通报》2003年第2期132-135,共4页Chinese Science Bulletin

基　　金：国家自然科学基金资助项目(批准号: 50072017).

摘　　要：采用化学溶液法,溶解分散H38O3,CO(NH2)2及α-Si3N4微粉制成悬浮液,干燥后以氢还原氮化法制备出纳米氮化硼包覆微米氮化硅的Si3N4/BN纳米复合粉体.利用X射线衍射(XRD)和透射电子显微镜(TEM)对复合粉体的形成过程及形貌结构研究发现:当反应温度为1100℃时,包覆层中除在临近α-Si3N4颗粒表面有少量涡流状氯化硼(t-BN)生成外,其主要组成部分为非晶态BN.以上复合粉体经1450℃氮气氛下处理后,非晶态氯化硼与涡流状氮化硼转化为h-BN.所制复合粉体经1800℃热压烧结获得加工性能良好的复相陶瓷.

关 键 词：Si3N4/BN纳米复合粉体 氮化硅 氮化硼 微结构 加工性能 制备方法 非晶态 涡流状 

分 类 号：TB383[一般工业技术—材料科学与工程]