光产碱反应及其应用  

Photobase Generation and Its Applications

作　　者：钟荣[1] 曾兆华[1] 杨建文[1] 陈用烈[1] 

机构地区：[1]中山大学化工学院高分子研究所,广州510275

出　　处：《高分子通报》2003年第2期43-50,共8页Polymer Bulletin

基　　金：广东省自然科学基金资助项目 ( 0 1 1 1 0 4)

摘　　要：光产酸剂作为光引发剂具有良好的引发效果 ,广泛应用于高分子领域 ,但使用光产酸剂会引起基材的腐蚀 ,而光产碱剂则无此弊病 ,故引起许多学者的兴趣。主要综述了光产碱剂和光产碱的类型。Photoacid generators can initiate polymerization effectively and have been applied in the fields of photopolymer, but they can erode the substrate.Photobase generators can avoid this disadvantage and attract much interests. In this article, the recent development of photobase generation and photobase generators are reviewed.The types of photobase generator, photochemical reaction mechanism and applications are described.

关 键 词：光产碱反应 光产酸剂 光引发剂 高分子 光产碱剂 光解反应 钴氨络合物 氨基甲酸酯 甲酰胺 

分 类 号：O644[理学—物理化学]