实现工艺映射的新方法  

A New Method for Technology Mapping

作　　者：张镭[1] 林争辉[1] 吕宗伟[1] 

机构地区：[1]上海交通大学大规模集成电路研究所,上海200030

出　　处：《微电子学》2003年第1期9-11,共3页Microelectronics

基　　金：美国国家科学基金资助项目(5978EastAsiaandPacificProgram-9602485);国家"九五"微电子重点科技攻关项目(96-738-01-09-02)

摘　　要：　逻辑综合中,工艺映射是关键的一步。过去,基于树的映射由于其速度快、算法简洁而被广泛使用。但是,将电路结构划分为树,破坏了电路结构,缩小了映射的解空间。双态覆盖(BinateCovering)能充分利用门级网表的结构特性,使工艺映射后的电路具有更好的性能。Technology mapping is an important step in logic synthesis In the past, treebased mapping was widely used because of its high speed and conciseness However, the circuit structure is destroyed in this method and better implementations are neglected With binate covering, the structural characteristics of the gatelevel netlist can be explored in detail, and the circuit after technology mapping has better performance

关 键 词：工艺映射 双态覆盖 逻辑综合 树 电路结构 

分 类 号：TN405[电子电信—微电子学与固体电子学]