用于制备磁隧道结的模板套准新方法及装置  

A New Method and Device of Mask Alignment for Preparation Magnetic Tunneling Junction

作　　者：由臣[1] 赵燕平[1] 刘技文[1] 陈民芳[1] 

机构地区：[1]天津理工学院,300191

出　　处：《新技术新工艺》2003年第6期45-46,共2页New Technology & New Process

基　　金：天津市教委基金资助项目 (0 1 - 2 0 2 1 6 )

摘　　要：简述了现有掩模技术制备磁隧道结的过程 ;指出了采用定位图形套准模板存在的弊端 ;介绍了 1种将基片固定 ,利用定位螺栓套准模板的装置。实践表明 :采用该装置可显著提高制备磁隧道结的完好率 。

关 键 词：磁隧道结 套准 模板 定位图形 掩模技术 制备 纳米多层膜 装置 

分 类 号：TB383[一般工业技术—材料科学与工程]