BF2^＋注入硅分子效应的椭偏谱多层分析  

作　　者：朱文玉 

出　　处：《科技通讯（上海）》1992年第2期36-43,共8页

关 键 词：硅 离子注入 分子效应 椭偏谱 

分 类 号：TN405.3[电子电信—微电子学与固体电子学]