二氧化锡薄膜的制备和应用研究进展  

Research development on preparation and application of SnO_2 thin films

作　　者：张谢群[1] 余家国[1] 赵修建[1] 赵丽[1] 刘升卫[1] 

机构地区：[1]武汉理工大学材料复合新技术国家重点实验室,湖北武汉430070

出　　处：《化学试剂》2003年第4期203-206,共4页Chemical Reagents

基　　金：国家自然科学基金资助项目(50272049;50072016);高等学校骨干教师资助计划。

摘　　要：介绍了近年来二氧化锡薄膜的制备方法和在功能材料中的应用。探讨了各种方法的特点,提出了今后二氧化锡薄 膜的发展趋势和应用前景。The current methods for preparation of tin dioxide thin films and related research work are introduced. On the basis of summarization, the development tendency and promising application are presented.

关 键 词：二氧化锡薄膜 制备 应用 薄膜技术 功能材料 半导体材料 气敏材料 导电膜 

分 类 号：TB43[一般工业技术] TB383