化学增幅电子束抗蚀剂的研究概况  

The Progress of Chemically Amplified EB Resist

作　　者：杨凌露[1] 张改莲[1] 余尚先[1] 

机构地区：[1]北京师范大学化学系,北京100875

出　　处：《信息记录材料》2003年第3期34-38,共5页Information Recording Materials

摘　　要：本文综述了近 10年来电子束化学增幅抗蚀剂的概况、主要组成、成像反应机理及电子束抗蚀剂的发展方向。This article presents the development,main resist system and reaction mechanism of EB resist in last ten years In addition,the future directio n of EB resist is illuminated

关 键 词：化学增幅 电子束 抗蚀剂 正性 负性 组成 成像机理 酚树脂 有机硅材料 

分 类 号：TQ572.42[化学工程—精细化工]