电子束曝光机静电偏转系统  

Electrostatic Deflection System of E-beam Lithography Machine

作　　者：程建辉[1] 尹明[2] 

机构地区：[1]山东大学机械工程学院,济南250061 [2]山东大学电子束研究室,济南250061

出　　处：《微细加工技术》2003年第3期1-4,8,共5页Microfabrication Technology

摘　　要：以静电极板为电子束曝光机偏转负载,用双通道扫描原理进行扫描,并使用计算机辅助设计研究电子束曝光机聚焦偏转系统的结构。由SDS-3电子束曝光机试验结果表明,复合静电偏转可以达到磁偏转相似的像差水平。Using the electrostatic plates as the load of the Ebeam deflection system and the double channels scanning the structure of the Ebeam column is analyzed with CAD. The experimental results of SDS-3 Ebeam lithography machine show that the aberrations of the electrostatic deflection are in the same order of the magnetic deflection.

关 键 词：静电极板 电子束曝光机 静电偏转 聚焦偏转 像差 

分 类 号：TN305.7[电子电信—物理电子学]