微洁净环境中的颗粒监测  

作　　者：沈健 

机构地区：[1]美国颗粒测量系统公司Particle Measuring Systems

出　　处：《集成电路应用》2003年第9期71-76,共6页Application of IC

摘　　要：微环境的出现极大地提高了半导体加工过程的洁净度。新的微环境设计原理,例如防护罩、正压强和机械臂的应用使其性能明显地优于传统的设计。安装和调校微洁净环境的过程为精确调试工艺设备提供了的机会,使之能在ISO一级或二级洁净度的环境中开始运行。

关 键 词：微洁净环境 颗粒监测 洁净度 半导体加工 离子注入机 硅片探针台 

分 类 号：TN305.97[电子电信—物理电子学]