反应离子刻蚀（RIE）腐蚀双层金属布线中介质孔及有关...  

作　　者：张一平 祝军 

出　　处：《上海半导体》1992年第1期21-25,共5页

关 键 词：反应离子刻蚀 腐蚀 金属布线 AES 

分 类 号：TN405.983[电子电信—微电子学与固体电子学]