碳化硅光学镜面加工  

SURFACING FABRICATION OF SILICON CARBIDE OPTICAL M IRROR

作　　者：范镝[1] 张忠玉[1] 牛海燕[1] 丰玉琴[1] 张学军[1] 

机构地区：[1]中国科学院长春光学精密机械与物理研究所光学技术中心,长春130022

出　　处：《硅酸盐学报》2003年第11期1096-1100,共5页Journal of The Chinese Ceramic Society

基　　金：国家杰出青年基金(69925512)

摘　　要：简要介绍了碳化硅光学镜面的主要应用领域;碳化硅材料的主要物理特性和几种常用的制备方法;比较了碳化硅材料与其他常用光学镜面介质材料的主要物理性质。介绍了碳化硅光学镜面的光学加工的流程和加工手段;比较分析了碳化硅光学镜面的光学加工过程各个步骤中所应用的磨具、磨料和加工方法。讨论了光学加工过程中各个步骤工艺参数的选择和降低碳化硅光学镜面表面粗糙度的途径。最后,简介了美国、俄罗斯和我国在碳化硅反射镜的光学加工方面所取得的成果。Main applied fields of silicon carbide (SiC) optical surface, primary physical properties of silicon carbide and the tech-niques to make the mirror body were briefly introduced. The comparison of physical properties between SiC and other optical materials were made, Several kinds of tools and abrasives used for optical surfacing of the SiC mirror progress are presented and evaluated. Moreover, the development situation of this field in US, Russia and China is also presented.

关 键 词：碳化硅 光学镜面 光学加工 面形精度 粗糙度 

分 类 号：TN305.1[电子电信—物理电子学] TN304.24