纳米器件的一种新制造工艺——纳米压印术(续)  

A new technique for fabrications of nanodevices-nanoimprint lithography(Continued)

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作  者:梁迎新[1] 王太宏[1] 

机构地区:[1]中国科学院物理研究所,北京100080

出  处:《微纳电子技术》2003年第5期1-5,12,共6页Micronanoelectronic Technology

基  金:国家重点基础研究专项经费;自然科学基金资助课题(69925410和19904015)

关 键 词:纳米器件 制造工艺 纳米压印术 步进-闪光压印术 电子器件 

分 类 号:TN605[电子电信—电路与系统] TB383[一般工业技术—材料科学与工程]

 

参考文献:

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