检索规则说明:AND代表“并且”;OR代表“或者”;NOT代表“不包含”;(注意必须大写,运算符两边需空一格)
检 索 范 例 :范例一: (K=图书馆学 OR K=情报学) AND A=范并思 范例二:J=计算机应用与软件 AND (U=C++ OR U=Basic) NOT M=Visual
作 者:周斌[1] 孙骐[1] 黄耀东[1] 沈军[1] 吴广明[1] 王珏[1]
机构地区:[1]同济大学波耳固体物理研究所,上海200092
出 处:《原子能科学技术》2004年第1期79-83,共5页Atomic Energy Science and Technology
基 金:863"高技术项目(2002AA844120;2002AA84ts17)
摘 要:本工作研制了用于惯性约束聚变ICF分解实验模拟聚变靶丸表面粗糙度和驱动激光空间不均匀性对R T不稳定性作用的平面调制靶和平面薄膜靶。以激光干涉法结合图形转移工艺获得波长20~100μm、振幅0 0~4 0μm的正弦调制图形的模板,再将调制图形转移至溴代聚苯乙烯薄膜表面,制备出ICF实验用溴代聚苯乙烯平面调制箔靶;以半导体工艺结合自截止腐蚀工艺制得厚度4μm左右的自支撑Si平面薄膜靶。Si膜的表面粗糙度为几十纳米。对所研制的两种靶型的参数进行了测量。The development of the surface perturbation target and the thin silicon foil target used to research Rayleigh-Taylor instability in the resolved experiments of inertial confinement fusion are carried out. Based on the laser interference process combined with the figure-transfer process, the surface perturbation target with sine modulated perturbation is gotten, and the wavelength is 20-100 μm while the amplitude is several micrometers. The thin silicon foil with the thickness about 3-4 μm is prepared by semiconductor process together with heavy-doped self-stop etching. Combined with ion beam etching, the check or the stripe patterns are transferred to the surface of thin silicon foils, and then the silicon grating foil is obtained.
关 键 词:惯性约束聚变 平面调制靶 薄膜靶 ICF 表面粗糙度 溴代聚苯乙烯
分 类 号:TL639[核科学技术—核技术及应用]
正在载入数据...
正在载入数据...
正在载入数据...
正在载入数据...
正在载入数据...
正在载入数据...
正在载入数据...
正在链接到云南高校图书馆文献保障联盟下载...
云南高校图书馆联盟文献共享服务平台 版权所有©
您的IP:216.73.216.222