新型微波ECR-PECVD装置的研制  

Newly Developed Electron Cyclotron Resonance Plasma Chemical Vapor Deposition System

作　　者：阴生毅[1] 陈光华[1] 粟亦农[2] 张永清[2] 

机构地区：[1]北京工业大学材料科学与工程学院,北京100022 [2]中科院电子所微波器件中心,北京100080

出　　处：《真空科学与技术学报》2004年第1期33-36,共4页Chinese Journal of Vacuum Science and Technology

基　　金：国家重点基础研究发展规划资助项目 (G0 0 0 0 2 82 0 1)

摘　　要：介绍一台新型的ECR PECVD装置。这一装置设计和采用了一种由单个电磁线圈和永磁体单元组合的新型磁场 ,使整个装置结构明显简化。为提高装置的微波转换效率 ,通过计算机仿真微波场在等离子体室的分布 ,选择和采用了一种新型的矩形耦合波导。应用这一装置分解H2 稀释的SiH4气体以沉积a Si:H薄膜 ,获得了A new microwave electron cyclotron resonance (ECR) plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD) system was developed.A magnetic field generalized by a magnetic coil with a permanent magnet may considerably simplify the system.In order to obtain high microwave transform efficiency,a dedicated wave guide was selected and adopted,based on computer simulating of microwave electric field.By decomposing SiH 4 in this source the deposition rates of a Si:H films can be higher than 2 nm/s.

关 键 词：电磁线圈 永磁体 微波转换 计算机仿真 微波电子回旋共振等离子体增强化学气相沉积 ECR-PECVD 

分 类 号：TN304.055[电子电信—物理电子学]