新型减反膜的设计与制备  

Design and fabrication of new anti reflection coatings

作　　者：李芳[1] 林永昌[2] 刘育梁[1] 

机构地区：[1]中国科学院半导体研究所集成光学国家重点实验室,北京100083 [2]北京理工大学光电工程系,北京100081

出　　处：《光学仪器》2004年第2期115-117,共3页Optical Instruments

摘　　要：根据近年来实际应用中对减反膜的新的需求和指标要求,利用光学薄膜设计软件进行模拟和理论分析,采用常规的薄膜工艺和设备进行大量实验,设计并制备出三种新型的减反膜:含金属膜的减反膜(包括窄带金属减反膜,宽带金属减反膜,减反防静电抗电磁辐射膜),超低反射率减反膜和大角度减反膜,满足了实际器件的应用要求。Three kinds of new anti reflection coatings are designed and fabricated by the use of optical coating design software analysis, general coating process and coating equipment. The AR coatings include: anti reflection coating with metal layer (narrow bandwidth, wide bandwidth and anti reflection coating with electrical static potential and magnetic shielding),ultra low AR coatings and large angle AR coatings meeting the requirement.

关 键 词：光学薄膜 减反膜 薄膜工艺 金属膜 薄膜设计 薄膜光学 

分 类 号：O484.41[理学—固体物理]