林永昌

作品数：29被引量：79H指数：6
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发文主题：光学薄膜膜系优化设计评价函数针法更多>>
发文领域：理学电子电信一般工业技术机械工程更多>>
发文期刊：《光电子技术》《北京理工大学学报》《仪器仪表学报》《光学学报》更多>>
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新型减反膜的设计与制备被引量：5
《光学仪器》2004年第2期115-117,共3页李芳 林永昌 刘育梁 
根据近年来实际应用中对减反膜的新的需求和指标要求,利用光学薄膜设计软件进行模拟和理论分析,采用常规的薄膜工艺和设备进行大量实验,设计并制备出三种新型的减反膜:含金属膜的减反膜(包括窄带金属减反膜,宽带金属减反膜,减反防静电...
关键词：光学薄膜 减反膜 薄膜工艺 金属膜 薄膜设计 薄膜光学 
增益平坦滤光片的设计被引量：5
《光学仪器》2004年第2期5-7,共3页林永昌 李芳 刘育梁 辛红丽 
分析了增益平坦滤光片的工作原理,提出其性能参数和指标要求,并以OIC2001的目标曲线为例,利用针法膜系自动设计并结合遗传算法和隧穿法等膜系优化设计方法,设计出与目标曲线基本一致的膜系结构。
关键词：增益平坦滤光片 针法膜系设计 遗传算法 隧穿法 密集波分复用 光纤通信 
CdS_(0.1)Se_(0.9)纳米晶体的电光性质被引量：2
《量子电子学报》2002年第1期70-73,共4页孙萍 王引书 王若桢 林永昌 
国家自然科学基金资助项目(29890217)
对嵌埋于玻璃基体中的ＣｄＳ０．１Ｓｃ０．９纳米晶体进行了室温电调制透射谱测量，观察到较强的共振和非共振电光响应倚号（１０－４～１０－３）．共振电光响应具有如下特征：同一组分的纳米晶体其倩号的峰位随着尺寸减小向高能方向...
关键词：电调制透射谱 纳米晶体 电光效应 电光性质 
减反、防静电、抗电磁辐射膜的研制被引量：2
《光学技术》2001年第5期406-407,共2页李芳 林永昌 
金属膜具有复折射率N =n -ik ,同时又具有金属的导电特性。采用含有一层金属Cu的膜系代替原有的ITO透明导电膜来制作应用于CMT的减反、防静电、抗电磁辐射膜。经过理论分析 ,计算机辅助设计 ,最后进行实验验证 ,提出了一种全新的制作减...
关键词：减反 防静电 抗电磁辐射 CMT 金属膜 研制 铜 
膜系优化设计中的逃逸函数法被引量：5
《光学仪器》2001年第5期11-14,共4页李芳 林永昌 
国家自然科学基金资助项目 ( 6 96 780 2 1)
在膜系优化设计中引入可以摆脱局部极值 ,实现全局优化的逃逸函数 ( escapefunction)法。介绍了逃逸函数法的基本原理及算法设计 ,并举例说明它在膜系优化设计中与 needle法 ,传统优化方法结合使用可以进行全局搜索 。
关键词：逃逸函数法 needle法 膜系优化设计 全局搜索 
应用于光纤通信DWDM系统的超窄带滤光片的设计被引量：6
《北京理工大学学报》2001年第5期599-602,共4页李芳 林永昌 
设计光纤通信中波分复用 (DWDM)器件所用的超窄带滤光片 (NBPF) .该器件能够实现合 /分波的功能 ,避免串扰 ,具有矩形通带和较高的抑制比 .通过理论分析及实验 ,提出了采用多腔 F- P滤光片设计 DWDM用超窄带滤光片的方法 ,并举例设计 2 ...
关键词：波分复用 超窄带滤光片 插入损耗 偏振相关损耗 光纤通信 分波/合波原理 抑制比 
CdS_(0.1)Se_(0.9)纳米晶体共振电吸收谱的线形分析
《光学技术》2000年第6期519-520,523,共3页孙平 王若桢 王引书 林永昌 
国家自然科学基金资助项目!(1 96340 30 )
采用电调制技术在室温下测量了 Cd S0 .1 Se0 .9纳米晶体的电吸收谱 ,并对电吸收谱线形进行了分析。纳米晶体与第一个吸收峰有关的电吸收谱结构具有吸收系数对能量的二阶微商特征 ,表明第一激发态在电场作用下以吸收谱线的宽化为主 ,而...
关键词：纳米晶体 电光效应 共振 电吸收谱 半导体 
CdS_(0.1)Se_(0.9)纳米晶体共振电光效应(英文)
《光子学报》2000年第9期843-847,共5页孙平 王引书 王若桢 林永昌 颜其礼 黄平 
This work is sponsored by Chinese Science Foundation
采用电吸收谱 (EA)的方法研究了在电场作用下 ,Cd S0 .1Se0 .9纳米晶体光学性质的变化 .分析了电场效应的物理机制 ,电场效应是使纳米晶体的吸收谱展宽和移动 .第一激发态对外加电场敏感 ,而其它激发态不敏感 .从电吸收谱上得到电光响...
关键词：纳米晶体 电吸收 量子受限效应 共振 电光效应 
走向工业应用的离子辅助光学镀膜技术
《微细加工技术》2000年第3期1-5,共5页尤大伟 李晓谦 王怡德 林永昌 
介绍一种新型等离子体辅助镀膜技术 ,使用该技术可使高质量的光学镀膜大量生产。该技术核心是无栅等离子体源 (GIS)。GIS可以产生大面积的均匀等离子体 ,直径大于 1 0 0 0mm。等离子体离子流强度高达 0 .5mA/cm2 ,离子流能量 2 0 - 2 0 ...
关键词：等离子体离子 无栅等离子体源 光学镀膜 
等离子辅助成膜技术被引量：2
《仪器仪表学报》2000年第5期490-492,共3页林永昌 尤大纬 李晓谦 沈立新 郑陪雨 
国家自然科学基金项目
等离子辅助沉积技术是一种能大规模高质量制造光学膜的技术 ,本文报道了等离子辅助源的性能指标 ,用这个源制造的Ti O2 膜工艺与成膜质量 ,以及用等离子辅助生产减反膜的工艺。
关键词：光学膜 离子辅助沉积 等离子辅助沉积 
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