等离子辅助成膜技术  

Plasma Ion Assisted Deposition Technique

作　　者：林永昌[1] 尤大纬[2] 李晓谦[2] 沈立新 郑陪雨 

机构地区：[1]北京理工大学,北京100081 [2]中国科学院空间中心,北京100081 [3]北京仪器厂,北京100022

出　　处：《仪器仪表学报》2000年第5期490-492,共3页Chinese Journal of Scientific Instrument

基　　金：国家自然科学基金项目

摘　　要：等离子辅助沉积技术是一种能大规模高质量制造光学膜的技术 ,本文报道了等离子辅助源的性能指标 ,用这个源制造的Ti O2 膜工艺与成膜质量 ,以及用等离子辅助生产减反膜的工艺。Plasma ion assisted deposition is a powerful technology for the production of optical coatings.This paper mainly discusses the performance specification of plasma source,technology and quality of Ti O2 coatings and the technology for antireflection coatings deposited with plasma IAD.

关 键 词：光学膜 离子辅助沉积 等离子辅助沉积 

分 类 号：O484.41[理学—固体物理]