李晓谦

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供职机构：中国科学院空间科学与应用研究中心更多>>
发文主题：离子源强流表面改性电子束蒸发等离子体源更多>>
发文领域：电子电信金属学及工艺理学更多>>
发文期刊：《微细加工技术》更多>>
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走向工业应用的离子辅助光学镀膜技术
《微细加工技术》2000年第3期1-5,共5页尤大伟 李晓谦 王怡德 林永昌 
介绍一种新型等离子体辅助镀膜技术 ,使用该技术可使高质量的光学镀膜大量生产。该技术核心是无栅等离子体源 (GIS)。GIS可以产生大面积的均匀等离子体 ,直径大于 1 0 0 0mm。等离子体离子流强度高达 0 .5mA/cm2 ,离子流能量 2 0 - 2 0 ...
关键词：等离子体离子 无栅等离子体源 光学镀膜 
薄膜制备用电子束蒸发强流气固两用离子源
《真空科学与技术》1996年第6期445-448,共4页冯毓材 李晓谦 
国家自然科学基金
介绍了一种新型的电子束蒸发（EBE）强流气、固两用离子源，其基本原理是将电子束蒸发技术引人离子源放电室内，使材料的蒸发和游离在同一放电室内完成。该源不仅能引出包括各种难熔材料在内的强流金属和非金属离子束，而且能同时引出...
关键词：表面改性 电子束蒸发 金属离子源 薄膜制备 
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