磁控溅射制备TiO_2薄膜的亲水性能研究  

Study on Hydrophilic Properties of TiO_2 Thin Films Prepared by Magnetron Sputtering

作　　者：黄永刚[1] 陈敏[2] 李长敏[2] 张庆瑜[3] 

机构地区：[1]大连轻工业学院玻璃及无机新材料研究所 [2]大连轻工业学院材料科学与工程系,辽宁大连116034 [3]大连理工大学三束材料改性国家重点实验室,辽宁大连116024

出　　处：《材料科学与工程学报》2004年第3期401-404,共4页Journal of Materials Science and Engineering

基　　金：大连理工大学三束材料改性国家重点实验室资助项目 (50 2 4 0 4 2 0 656)

摘　　要：用射频磁控溅射法在玻璃基片上制备TiO2 薄膜 ,并分别在 30 0℃、4 0 0℃、5 0 0℃下进行热处理。用紫外吸收光谱、原子力显微镜 (AFM)、接触角测定等分析方法研究了制备工艺、热处理和紫外光照射时间对薄膜表面亲水性的影响。结果表明 ,经紫外光照射或热处理后的TiO2 薄膜表面表现出明显的超亲水性 ,而制备工艺的变化对亲水性的影响不明显。光谱、AFM分析表明 ,导致薄膜表面亲水性的原因在于薄膜表面微结构的变化。TiO_2 thin films were prepared by RF magnetron sputtering on the glass substrates and annealed at 300℃,400℃ and 500℃ respectively.The influences of preparation conditions,annealing temperature and illuminating time on hydrophilicity of the TiO_2 thin films were studied by using ultraviolet absorption spectrum,atomic force microscopy(AFM),and contact angle measurement.The results show that TiO_2 thin films can be wetted by water after annealing or UV-light illuminating for certain time,but the change of preparation conditions can not effectively improve hydrophilicity.The analysis of ultraviolet absorption spectrum and AFM shows that the hydrophilicity of TiO_2 thin films depends strongly on the change of surface microstructure.

关 键 词：TIO2薄膜 磁控溅射 亲水性 表面微结构 原子力显微镜 制备工艺 半导体薄膜材料 

分 类 号：TN304.21[电子电信—物理电子学]