热处理对ZnO:Al薄膜的结构、光学和电学性质的影响  

作　　者：陈艳伟[1] 于文华[1] 刘益春[1] 

机构地区：[1]东北师范大学先进光电子功能材料研究中心

出　　处：《中国科学（G辑）》2004年第3期345-353,共9页

基　　金：国家自然科学基金资助项目(批准号: 60176003;60376009)

摘　　要：用电子束蒸发技术在石英衬底上制备了铝掺杂氧化锌(ZnO:Al)透明导电薄膜, 并对其退火前后的结构和光电性质进行了研究. X射线衍射实验结果表明所制备样品均具有c轴择优取向的六角多晶结构. 光致发光谱由较强的紫外发光和弱深能级缺陷发光组成. 薄膜具有较高的透射率、电导率和载流子浓度. Hall效应测试结果表明薄膜为简并n型半导体, 室温电阻率为6.7×10-4 ·cm, 载流子浓度在1020 cm-3量级. 研究了其导电机理及载流子的输运机制.

关 键 词：氧化锌薄膜 铝掺杂 光致发光 电学性质 结构性质 X射线衍射分析 Hall效应 Vander Pauw测试 

分 类 号：TG156[金属学及工艺—热处理]