二氧化硅光波导膜材料的制备工艺  

Fabrication Process of Silica Film for Optical Waveguides

作　　者：吴金东 黄舒 胡海鑫 丁纲筋 肖湘杰 

机构地区：[1]深圳市光纤传感工程技术研究开发中心,深圳 [2]深圳太辰光通信股份有限公司,深圳

出　　处：《光电子》2014年第3期34-43,共10页Optoelectronics

摘　　要：二氧化硅(SiO2)平面光波导器件在光通信和光传感的应用日益广泛,制备SiO2膜材料是平面光波导及其集成器件制作的基础。等离子增强化学气相沉积(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition, PECVD)和火焰水解沉积(Flame Hydrolysis Deposition, FHD)工艺是制备SiO2厚膜的典型方法, 本文分析总结了制备工艺参数对膜层性能的影响,说明PECVD + FHD混合工艺是SiO2型PLC器件最具竞争性的制作方法。

关 键 词：平面光波导 二氧化硅膜 等离子增强化学气相沉积 火焰水解沉积 

分 类 号：O48[理学—固体物理]