等离子增强化学气相沉积

作品数:61被引量:196H指数:7
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氩气流量对射频CVD法沉积类金刚石碳薄膜的影响
《超硬材料工程》2024年第6期11-16,共6页汤黎辉 肖长江 任瑛 张群飞 郑皓宇 栗正新 
工信部高质量发展专项(203ZS20230005);河南省重大科技专项高端超硬材料制品关键技术研究及产业化(221100230100)。
文章采用射频CVD沉积法,以甲烷和氢气为反应物,在硅(111)基底上沉积类金刚石碳薄膜,分析不同氩气流量对类金刚石碳薄膜性能的影响。利用激光拉曼光谱仪对类金刚石碳薄膜的结构特征进行分析,发现在1400~1700 cm^(-1)区间,有一个明显的宽G...
关键词:等离子增强化学气相沉积 类金刚石碳膜 拉曼光谱 
高能N等离子源辅助GaN薄膜生长及其物性研究
《光电子.激光》2024年第9期987-992,共6页胡海争 贺怀乐 赖黎 王顺利 吴超 郭道友 
国家自然科学基金(62274148);浙江省教育厅一般项目(23060158-F)资助项目。
氮化镓(GaN)具有宽带隙、高量子效率、优异的热稳定和抗辐射等特性,在高频、高功率电子及紫外光电器件中有着重要的作用。在本工作中,采用经济、环保的等离子增强化学气相沉积(plasma-enhanced chemical vapor deposition,PECVD)方法,...
关键词:等离子增强化学气相沉积(PECVD) GAN薄膜 低温沉积 N等离子体 
电极间距对防原子氧聚硅氧烷薄膜性能的影响
《真空与低温》2024年第1期71-77,共7页李毅 何延春 王虎 王兰喜 曹生珠 袁璐 王江伟 李中华 
国家自然科学基金(12305289,U1937601);国家重点研发计划(2022YFB3806300);甘肃省自然科学基金(23JRRA1363);国防基础科研项目(JCKY 2020203 b019);五院共性工艺技术研究项目(GXJS1701)。
与传统制备防护薄膜的方法相比,等离子体聚合法是一种更高效、干燥和简易的制备方法,可以在各种基底上制备数百纳米厚的致密薄膜涂层。采用等离子增强化学气相沉积(PECVD)法在大面积柔性聚酰亚胺Kapton基底上制备了聚硅氧烷防原子氧薄...
关键词:等离子增强化学气相沉积 六甲基二硅氧烷 电极间距 薄膜 原子氧 
等离子增强化学气相沉积制备氮化硅薄膜的工艺优化与性能被引量:2
《材料热处理学报》2023年第8期149-155,共7页张志坤 占勤 窦志昂 白敬元 杨洪广 
中核集团英才基金(219601)。
采用等离子增强化学气相沉积方法在p型<100>硅片沉积氮化硅薄膜,通过椭偏仪和缓冲氧化物刻蚀液(BOE)溶解实验来表征薄膜的均匀性与致密度,研究了射频功率、腔室气压、气体流量比和衬底温度4个工艺参数对氮化硅薄膜性能的影响。结果表明:...
关键词:等离子增强化学气相沉积 氮化硅 致密度 均匀性 
含氢四面体非晶碳膜的制备与结构及力学性能被引量:3
《硅酸盐学报》2022年第10期2651-2656,共6页许世鹏 占发琦 郑月红 陈维铅 喇培清 
甘肃省科技计划项目(18YF1WA069);甘肃省高等学校创新能力提升项目(2020A-030,2020A-286,2022B-475)。
采用化学气相沉积法制备具有优异力学性能的含氢四面体非晶碳膜有望满足工业应用的要求。通过自主设计的等离子体增强化学气相沉积实验系统制备含氢四面体非晶碳膜,并对其微观结构与力学性能进行研究。随着偏压从-200 V增加到-500 V,薄...
关键词:含氢四面体非晶碳膜 力学性能 等离子增强化学气相沉积 微观结构 
氮化硅薄膜生长随时间演化过程及其特性研究被引量:1
《硅酸盐通报》2021年第7期2396-2400,2436,共6页孙佳欣 周炳卿 
国家自然科学基金(51262022);内蒙古师范大学研究生科研创新基金(CXJJS19108)。
氮化硅SiNx薄膜凭借介电常数高和稳定性好的特点而被广泛应用于光电器件中,但薄膜的厚度对器件的性能有重要影响。针对此问题采用等离子体化学气相沉积技术,以高纯NH_(3)、N_(2)和SiH_(4)为反应气体,优化其他沉积参数,通过改变沉积时间...
关键词:等离子增强化学气相沉积 氮化硅薄膜 沉积时间 光学带隙 折射率 致密度 
减反射膜仿真优化与制备被引量:2
《光学技术》2021年第1期28-30,共3页李攀 朱良秋 卢宏 
利用有限时域差分方法设计并优化了由二氧化硅和氮化硅组成的双层和三层减反射膜,在1550nm波长附近实现减反射效果。采用等离子增强化学气相沉积高质量的二氧化硅和氮化硅薄膜,制备了氧化硅、氮化硅双层减反射膜,同时制备了氮化硅、氧...
关键词:薄膜光学 减反射膜 有限时域差分 等离子增强化学气相沉积 
立方氮化硼生物涂层进展
《超硬材料工程》2020年第6期34-34,共1页 
日本九州大学JASON H.C.YANG和KUNGEN TEII等人通过使用等离子增强化学气相沉积法制备了高质量的、具有较高体外生物相容性的cBN膜。当在氢和氮等离子体中化学处理cBN膜时,无论是否受到低能离子的影响,由于去除了末端cBN表面的氟原子,...
关键词:立方氮化硼 等离子增强化学气相沉积 日本九州大学 超硬涂层 生物医学应用 表面自由能 生物涂层 超亲水 
含氢类金刚石涂层在船用柴油机柱塞上的应用被引量:3
《金属热处理》2020年第11期226-231,共6页王永坤 秦洪 杨静 缪学强 刘惠娥 陈超 
工信部“高技术船舶科研计划—船用低速机工程(一期)”(船工科[2017]21号)。
利用磁控溅射和等离子增强化学气相沉积复合技术,以Cr、WC、石墨为靶材,Ar和C2H2为工作气体,在船用低速柴油机柱塞上涂覆了过渡层依次为Cr、WC的含氢类金刚石涂层。结果表明:涂层晶体生长良好,结构连续致密,均未出现分层、开裂及剥离的...
关键词:柱塞 磁控溅射 等离子增强化学气相沉积 含氢类金刚石涂层 摩擦磨损 
Al2O3衬底无催化剂生长GaN纳米线及其光学性能被引量:3
《物理学报》2020年第8期204-209,共6页梁琦 王如志 杨孟骐 王长昊 刘金伟 
国家自然科学基金(批准号:11774017)资助的课题.
采用一种绿色的等离子增强化学气相沉积法,以Al2O3为衬底, Ga金属为镓源, N2为氮源,在不采用催化剂的情况下,成功制备获得了结晶质量良好的GaN纳米线.研究表明,生长温度可显著调控GaN纳米线的形貌,当反应温度为950℃时,生长出的GaN微米...
关键词:GAN纳米线 等离子增强化学气相沉积 无催化剂 生长机理 
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