国家重点基础研究发展计划(2006CB302703)

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紫外辐照对超低介电常数SiCOH薄膜组成与机械性能的影响
《功能材料》2011年第9期1657-1659,1662,共4页付爽 胡龙龙 孟庆伟 丁士进 范仲勇 
国家重点基础研究发展计划(973计划)资助项目(2006CB302703);国家科技重大专项资助项目(2011ZX02703-04)
采用紫外光辐照超低介电常数多孔SiCOH薄膜,研究不同照射时间对薄膜结构和性能的影响。采用动态纳米压入技术测量薄膜的力学性能,发现随照射时间增加,薄膜的模量(Er)和硬度(H)不断提高。当辐照时间增至6h时,薄膜力学强度分别达到Er约7.4...
关键词:紫外辐照 多孔SiCOH薄膜 力学性能 低介电常数 
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