SCATTEROMETRY

作品数：5被引量：13H指数：2
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Selection of DBO measurement wavelength for bottom mark asymmetry based on FDTD method被引量：1
《Journal of Semiconductors》2019年第12期101-106,共6页Buqing Xu Qiang Wu Lisong Dong Yayi Wei 
supported by the National Science and Technology Major Project of China (Grant No. 2016ZX02301001)
A physical model for simulating overlay metrology employing diffraction based overlay(DBO)principles is built.It can help to optimize the metrology wavelength selection in DBO.Simulation result of DBO metrology with a...
关键词：diffraction based overlay SCATTEROMETRY photolithography simulation metrology wavelength finite difference time domain 
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