SCATTEROMETRY

作品数：5被引量：13H指数：2
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At wavelength coherent scatterometry microscope using high-order harmonics for EUV mask inspection被引量：4
《International Journal of Extreme Manufacturing》2019年第3期1-12,共12页Yutaka Nagata Tetsuo Harada Takeo Watanabe Hiroo Kinoshita Katsumi Midorikawa 
In this review,we describe our research on the development of the 13.5 nm coherent microscope using high-order harmonics for the mask inspection of extreme ultraviolet(EUV)lithography.EUV lithography is a game-changin...
关键词：high-order harmonics coherent EUV light EUV lithography coherent EUV scatterometry microscope synchrotron radiation EUV mask inspection 
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