ETCH

作品数：54被引量：55H指数：4
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Nitridation-Etch of Silicon Oxide in Fluorocarbon/Nitrogen Plasma:A Computational Study
《Journal of Microelectronic Manufacturing》2019年第1期19-26,共8页Du Zhang Yu-Hao Tsai Hojin Kim Mingmei Wang 
The continually increasing number of silicon oxide(SiO2)and nitride(Si3N4)layers in 3D-NAND offers both motivations and challenges for developing all-in-one plasma etch solutions for etching SiO2 and Si3N4 at a select...
关键词：3D-NAND oxide NITRIDE OXYNITRIDE plasma ETCH molecular dynamics quantum chemistry 
Silicon Nitride Etch via Oxidation Reaction in Fluorocarbon/Oxygen Plasma:A First-Principle Study被引量：1
《Journal of Microelectronic Manufacturing》2018年第1期2-10,共9页Yu-Hao Tsai Du Zhang Mingmei Wang 
Conducting all-in-one etch process for 3D-NAND fabrication requires close etch rate(E/R)for SiO2 and Si3N4;however,to attain comparable and high etch rate for both materials is challenging.In this work,we performed fi...
关键词：3D-NAND oxide NITRIDE OXYNITRIDE plasma ETCH FIRST-PRINCIPLE 
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