吸水剖面测井

作品数：46被引量：52H指数：4
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吸水剖面测井沾污控制与校正处理被引量：12
《测井技术》2000年第2期113-117,共5页何茂东 覃远庆 
对吸水剖面测井中沾污形成的原因进行了分析 ,提出降低示踪剂的比强度和注入“冷球”两种控制吸水剖面测井沾污的新工艺。从理论上分析了如何对沾污进行校正 ,建立了沾污校正的解释模型。实际结果表明 ,对沾污进行校正后提高了吸水剖面...
关键词：吸水剖面 污染防治 示踪剂 测井解释 校正处理 
吸水剖面测井中同位素两次释放新工艺被引量：1
《测井技术》1997年第4期292-296,共5页佟广新 赵宝成 朱世和 周晓香 
佟广新，等．吸水剖面测井同位素两次释放新工艺．测井技术，１９９７，２１（４）：２９２～２９６同位素测井一直存在两个重要的技术问题：同位素测井的粘污问题和同一注水井各渗透层吸水量相差较大的测试问题。吸水剖面只能做定性解...
关键词：吸水剖面 同位素 测井解释 两次释放 
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