相位掩模

作品数：91被引量：309H指数：9
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相关领域：电子电信机械工程理学更多>>
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相关机构：武汉理工大学北京交通大学西安理工大学吉林大学更多>>
相关期刊：《光学精密工程》《光学学报》《微细加工技术》《功能材料》更多>>
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制作光纤光栅用相位掩模的衍射行为研究被引量：2
《光通信研究》2006年第3期58-60,共3页刘全 吴建宏 陈刚 方玲玲 
江苏省高技术研究计划资助项目(BG2004020);苏州大学青年教师研究基金资助项目(Q3210525)
利用严格耦合波理论对用于光纤光栅制作的相位掩模的衍射特性进行了深入的研究。研究发现，在紫外写入波长（248nm）下，为了使零级衍射效率〈5％，且±1级的衍射效率〉35％，相位掩模的刻槽深度必须控制在230．280nm。占宽比必须控制在...
关键词：相位掩模 光纤光栅 衍射效率 严格耦合波理论 
相位掩模法制作光纤光栅的研究被引量：4
《光通信研究》1997年第2期46-50,共5页刘永红 黄德修 王黎 郭健明 
国家自然科学基金
准分子激光照射相位掩模后，在近场形成周期的条纹分布，利用近场光强对光敏光纤进行曝光，可以在纤芯中写入光栅。从衍射的频谱理论出发，导出具有一定发散角的准单色准分子激光照射掩模时产生的近场光强分布。分析了光源发散角及掩模...
关键词：相位掩模 光纤光栅 近场光强分布 
相位掩模法制造光纤光栅的理论分析被引量：1
《光通信研究》1997年第2期51-54,共4页邹林森 雷非 唐仁杰 刘贤炳 胡涛 
推导出了用相位掩模法制造光纤光栅的理论根据，得出了相位掩模法中常见的一些有用公式，并报道了实验结果。
关键词：相位掩模法 光纤光栅 光场强 
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